Keramičke mete za prskanje
-
![4N ZrO2 meta za raspršivanje sa Cu stražnjom pločom]()
4N ZrO2 meta za raspršivanje sa Cu stražnjom pločomNaše mete za raspršivanje cirkonijum dioksida sa podložnim pločama proizvedene su od materijala od cirkonijum dioksida visoke -čistoće, čvrsto vezane za metalnu podložnu ploču; ovaj dizajn...Više -
![ZrC meta za raspršivanje sa Cu stražnjom pločom]()
ZrC meta za raspršivanje sa Cu stražnjom pločomNaše mete za raspršivanje od cirkonijum karbida (ZrC) sa bakarnom podlogom imaju čvrstu vezu između visoko{0}}cistoćeg ZrC materijala i bakarne podloge. Ovaj dizajn osigurava odličnu toplinsku i...Više -
![Ta 5at% Doped ZrC meta za raspršivanje]()
Ta 5at% Doped ZrC meta za raspršivanjePrecizno dopiranje cirkonijum karbida sa 5 atomskih postotaka tantala značajno povećava otpornost ciljanog materijala na visoke-temperature, otpornost na termički udar i otpornost na koroziju....Više -
![4N IGZO meta za prskanje]()
4N IGZO meta za prskanjeNaše 4N IGZO mete za raspršivanje daju stabilnije i efikasnije performanse raspršivanja. Specijalizirani za najkvalitetnije-prilike za ekrane i poluvodičke aplikacije, olakšavaju realizaciju...Više -
![4N HfO2 meta sa Cu stražnjom pločom]()
4N HfO2 meta sa Cu stražnjom pločom4N HfO₂ meta za raspršivanje sa bakrenom podlogom koristi materijal hafnijum oksida čistoće od 99,99%. Integrisan sa bakrenom podlogom, nudi odličnu toplotnu provodljivost i idealno je prikladan...Više -
![4N HfO2 dopiran sa 2% Ti mete]()
4N HfO2 dopiran sa 2% Ti meteCilj za raspršivanje sa 2% Ti-dopiranog HfO₂ je proizveden korišćenjem supstrata od hafnijum oksida visoke - čistoće, precizno dopiranog sa 2% titanijuma. Odlikuje ga ujednačenost kompozicije i...Više -
![4N HfO2 meta za raspršivanje]()
4N HfO2 meta za raspršivanje4N High-metal za raspršivanje hafnijum dioksida (99,99% čistoće)—pogodan za primjenu u optičkim premazima, poluvodičima i preciznoj elektronici. Odlikuje se velikom gustinom, ujednačenim sastavom...Više -
![B4C meta za prskanje]()
B4C meta za prskanjeKoristeći sirovine od bor karbida visoke -čistoće, ovaj proizvod ima izuzetnu tvrdoću i robusnu termičku stabilnost, što ga čini idealnim za primjenu u proizvodnji poluprovodnika, optičkim...Više -
![Prilagođene HfC čestice]()
Prilagođene HfC česticeOpis prilagođenih HfC čestica HfC čestice se obično sintetiziraju reakcijom hafnijum dioksida (HfO₂) sa ugljenikom na visokim temperaturama (1900-2300 stepeni) u inertnoj ili redukcionoj...Više -
![Cilj za raspršivanje kalajnog oksida (SnO2).]()
Cilj za raspršivanje kalajnog oksida (SnO2).Ciljni kalajni oksid (SnO2) je važan neorganski nemetalni materijal. Zbog svojih jedinstvenih fizičkih i hemijskih svojstava, igra važnu ulogu u mnogim oblastima visoke tehnologije. Njegove glavne...Više -
![Meta za raspršivanje tantal oksida (Ta2O5).]()
Meta za raspršivanje tantal oksida (Ta2O5).Meta za raspršivanje tantal oksida može se koristiti u poluvodičima, hemijskim taloženjem parom (CVD), fizičkim taloženjem parom (PVD) i optičkim aplikacijama. Mi smo dobavljač visokokvalitetnih...Više -
![Meta za raspršivanje titanijum oksida (TiO2).]()
Meta za raspršivanje titanijum oksida (TiO2).Titanov dioksid (TiO2) je najčešće korišten bijeli pigment, na primjer u bojama. Ima visoku svjetlinu i vrlo visok indeks prelamanja (2,609 za rutil).Više
Mi smo profesionalni keramički raspršivači ciljani dobavljači u Kini, specijalizirani za pružanje visokokvalitetnih prilagođenih usluga. Srdačno vas pozdravljamo da ovdje kupite keramičke mete za raspršivanje s popustom i dobijete besplatan uzorak iz naše tvornice. Za konsultacije o cijeni, kontaktirajte nas.